14th-cjsrm

第15回国際バイオテクノロジー展 BIO tech 2016へ「Radical Vapor Reactor オゾン/UV表面処理装置」 ・ 「オゾン水生成器(EOS7131-CDE)」を出展致します。
皆様のご来場を心よりお待ち申し上げております。

会期 2016年5月11日(水)~13日(金)
会場 東京ビックサイトにて 東京都江東区有明3-11-1
時間 11日(水)10:00~18:00
12日(木)10:00~18:00
13日(金)10:00~17:00
Webサイト http://www.bio-t.jp/
出展品

Radical Vapor Reactor オゾン/UV表面処理装置
加温・加湿機能付きオゾン/UV照射で、ラジカル反応を促進します。 オゾンと紫外線を利用した研究用の表面処理装置です。

オゾン水生成器(EOS7131-CDE)
EOSシリーズは特許取得済のオゾン発生及び溶解技術を採用し使い勝手がよく、有害な副生成物なしで高濃度のオゾン水が生成可能です。

Radical Vapor Reactor オゾン/UV表面処理装置


Radical Vapor Reactor オゾン/UV表面処理装置

Radical Vapor Reactor オゾン/UV表面処理装置

オゾン水生成器(EOS7131-CDE)

Switch to desktop version